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小型離子濺射儀

簡要描述:小型離子濺射儀(Small size ion sputtering instrument)是一種物理氣相沉積技術(shù),可用于制備薄膜和表面處理。它采用高能離子轟擊靶材表面,將材料濺射出來并沉積在底片上,從而制備出薄膜。

  • 產(chǎn)品型號:
  • 廠商性質(zhì):生產(chǎn)廠家
  • 更新日期:2024-11-06
  • 訪  問  量:1703
  小型離子濺射儀參數(shù):
 
  1.腔體尺寸:石英玻璃,直徑150mm*高度130mm
 
  2.供電規(guī)格:AC220V,200w
 
  3.適用靶材:貴金屬AU、Pt、Pd合金AU-Pt、AU-Pd 常規(guī)金屬Cu、W、Ag 、Cr 等
 
  4.樣品臺可調(diào)高度:20~50mm
 
  5.樣品臺尺寸:直徑55mm
 
  6.工作真空度:1~10Pa
 
  7.氣體路數(shù):單路
 
  8.氣體流量:手動調(diào)節(jié)
 
  9.控制:觸屏控制
 
  10.外形尺寸:260mm*410mm*343mm(寬*深*高)
 
  11.重量:10KG
 
  12.真空泵:VRD-8
 
  小型離子濺射儀簡介:
 
  1、人性化設(shè)計,儀器操作簡單,一鍵鍍膜。
 
  2、儀器小巧,不占空間,適用于實驗室、科研院所等。
 
  3、鍍膜均勻細密,適用于多種靶材。
 
  4、樣品臺可以快速調(diào)節(jié),方便取放樣品。
 
  5、儀器性能可靠,設(shè)有多重安全保護機制。

 
  小型離子濺射儀是一種物理氣相沉積技術(shù),可用于制備薄膜和表面處理。它采用高能離子轟擊靶材表面,將材料濺射出來并沉積在底片上,從而制備出薄膜。相比于傳統(tǒng)的濺射技術(shù),小型離子濺射儀具有以下優(yōu)點:設(shè)備小巧、易于操作、比較經(jīng)濟、沉積溫度較低、沉積速率高、薄膜質(zhì)量較好等優(yōu)點。因此,它已廣泛應(yīng)用于微納米材料和表面科學(xué)等領(lǐng)域。
 
  小型離子濺射儀是一種重要的表面處理設(shè)備,它通過將高能離子注入目標材料表面來改變其物理和化學(xué)性質(zhì)。其主要特點包括:
 
  1. 尺寸小巧:通常具有較小的尺寸和體積,可以在較小的實驗室中使用,方便實驗者們進行科研工作。
 
  2. 高效性能:具有較高的功率密度和離子能量,可以快速地改變目標材料的物理性質(zhì)和化學(xué)性質(zhì)。
 
  3. 穩(wěn)定性強:采用先進的控制技術(shù)和優(yōu)質(zhì)的材料制造,具有良好的穩(wěn)定性和可靠性。
 
  4. 操作簡單:使用方便,操作簡單,即使對于新手也可以快速上手。
 
  5. 廣泛應(yīng)用:不僅可以應(yīng)用于材料科學(xué)領(lǐng)域,而且可以應(yīng)用于生物醫(yī)學(xué)、電子技術(shù)、能源領(lǐng)域等各個領(lǐng)域。
 
  在使用小型離子濺射儀時,需要注意一些問題,如真空度、離子束流控制、目標材料的選擇和后續(xù)處理等問題。只有合理地運用小型離子濺射儀可以達到更好的實驗效果和更高的科研成果。
 

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